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      顆粒對CCD光刻圖形完整性的影響

      發布日期:2018/7/13 10:13:51 點擊數:1337

                                 顆粒對CCD光刻圖形完整性的影響
      在CCD(電荷耦合器件)制造過程中,顆粒沾污對CCD的薄膜質量、光刻圖形完整性等有很大的影響,降低CCD的成品率。CCD制造過程中的顆粒來源主要有兩個方面:一個制造過程中工藝環境產生的顆粒;另一個是薄膜的淀積、光刻和離子注入等CCD工藝過程中產生的顆粒。工藝環境的顆?蓙碓从趬w、設施、設備、材料和人員,工藝過程的顆粒來源于易產生粉塵的工藝,比如說LPCVD淀積多晶硅和氮化硅及刻蝕工藝等。
      本公司生產的COL-系列無塵烘箱,即使在普通環境下使用,能夠確保烘箱內部等級達到Class 100,為CCD(電荷耦合器件)制造過程中烘烤提供潔凈環境,預防顆粒沾污
      無塵烘箱特點:
      1.全周氬焊,耐高溫硅膠破緊,SUS304#不銹鋼電熱生產器,防機臺本身所產生微塵;
      2.采用進口SUS304#日制800番2mm厚之鏡面不銹鋼板,并經堿性蘇打水清潔,去油污避免烘烤時產生 PARTICLE;
      3.采平面水平由后向前送風后經美國進口H.E.P.A Filter 24"×24"×5-7/8"裝置往前門(特殊風道設計)方向送風,過濾效率99.99%,Class 100,排氣口:3"φ(附自動啟閉風門)。
      詳情致電公司咨詢!



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